爲滿足廣大校内師生對(duì)高質量科研的迫切需求，分析測試中心新購置的德國(guó)卡爾蔡司公司Gemini360場發(fā)射掃描電鏡，耦合原位微納米力學(xué)可視化測試（SEM-EDS/EBSD/力學(xué)/納米壓痕測試平台聯用），現已調試完畢開(kāi)始試運行，試運行期間價格優惠。 試運行期間，開(kāi)放教師操機時(shí)段（8:30~17:30），其他時(shí)段開(kāi)放時(shí)間根據用戶需求和實際情況另行通知。 設備放置地點：哈工大科學(xué)園科創大廈J320 設備聯系人：王老師（13633661095）；焦老師（18845610981） 一、設備優勢 掃描電鏡多場耦合原位微納米力學(xué)可視化測試系統可用于材料表面(miàn)微觀結構超高分辨率成(chéng)像，原位力學(xué)以及原位納米壓痕行爲分析。配備EDS、EBSD、原位力學(xué)、原位納米壓痕附件，獲得形貌及成(chéng)分襯度信息；元素含量定性、半定量分析；EBSD晶體取向(xiàng)分析；結合原位高溫力學(xué)台實時(shí)觀測系統，可進(jìn)行室溫及高溫原位拉伸(壓縮)、剪切、薄膜拉伸、四點彎曲等原位組織及力學(xué)性能(néng)表征，對(duì)微觀變形形貌及斷裂機制進(jìn)行動态原位觀察與分析；結合原位納米壓痕台，可動态觀察材料在室溫壓痕、壓縮、彎曲、劃痕、拉伸和疲勞等力學(xué)性能(néng)測試下的組織形貌變化。 二、技術指标 1. SEM、BSE及能(néng)譜分析 (1) 配備樣(yàng)品室内高真空側位二次電子探測器、鏡筒内正光軸環形二次電子探測器、樣(yàng)品室内可抽拉式背散射電子探測器；可同時(shí)獲得二次電子像及背散射像以及二者的混合圖像； (2) 配備導航相機，迅速找到樣(yàng)品所在位置，節省找樣(yàng)時(shí)間； 二次電子分辨率：0.7nm@15kV；1.2nm@1kV (非樣(yàng)品台減速模式)； (3) 加速電壓(非著(zhe)陸電壓)：20V～30kV，10V步進(jìn)連續可調； (4) 探針電流：3pA~20nA； (5) 放大倍數：1～2x106(寶麗來膠片模式)； (6) 能(néng)譜探測器：采用Si3N4新型SDD探測器窗口，采用低噪音的CMOS前置放大器内置的高速SDD芯片，晶體有效活區面(miàn)積70 mm2； (7) 能(néng)量分辨率(Mn-Ka)：127eV；能(néng)譜分析元素範圍：Be4~Am95。 2. EBSD分析 (1) EBSD相機：采用光學(xué)透鏡耦合的CMOS相機技術； (2) 掃描和指标化速度：6700點/秒；像素分辨率：640×480。 (3) 取向(xiàng)測量精度：優于0.1度； (4) 數據庫種(zhǒng)類：配有AMCS、ICSD和專用數據庫，同時(shí)支持第三方數據庫擴展及人工創建數據庫； (5) 指标化能(néng)力：能(néng)夠對(duì)所有7個晶系的晶體材料進(jìn)行自動化标定； (6) 數據處理：配置粗糙花樣(yàng)再标定系統(NPAR)系統，利用相鄰點再次标定系統，完成(chéng)對(duì)每幅花樣(yàng)的快速優化計算，提高原始标定成(chéng)功率； (7) 配置樣(yàng)品台：配置TKD樣(yàng)品台1個，可做透射樣(yàng)品的EBSD測試。 3. 原位力學(xué)分析 可在掃描電鏡下進(jìn)行SEM-原位力學(xué)和EBSD-原位力學(xué)聯用測試，實現原位拉伸(壓縮)、剪切、薄膜拉伸、四點彎曲等；适用于金屬、金屬基複合材料、薄膜、纖維和陶瓷等樣(yàng)品。 (1) 載荷大小：5kN和500N； (2) 動态力分辨率：1N； (3) 拉伸速度：0.1~20μm/s； (4) 最大行程：45mm； (5) 加熱溫度範圍：RT~800oC； (6) 拉伸同時(shí)，樣(yàng)品可傾斜70度，與EBSD聯用分析樣(yàng)品在室溫及高溫加載情況下的組織形貌變化。 鎳基高溫合金高溫拉伸力學(xué)性能(néng)與微觀結構變形斷裂 多晶高溫合金650℃高溫拉伸EBSD表征 鎳基高溫合金高溫拉伸過(guò)程中的晶粒轉動行爲 4. 原位納米壓痕分析 實時(shí)表征和觀察微/納米尺度材料機械力學(xué)性能(néng)，适用于金屬、金屬基複合材料、陶瓷和聚合物等樣(yàng)品。 (1) 載荷模塊：10mN，壓入位移<5μm；500mN，壓入位移<150μm；              3500mN，壓入位移<150μm； (2) 劃痕測試：最大橫向(xiàng)位移30μm； (3) 摩擦磨損：最大橫向(xiàng)力30mN，最大橫向(xiàng)位移20μm； (4) SPM原位掃描：最大掃描面(miàn)積20×20μm。 原位納米壓痕測試過(guò)程中的微觀結構變化 劃痕法測試的材料微觀結構 三、收費标準（試運行階段，教師操作） Ø  SEM+EDS功能(néng)：校内260元/小時(shí) Ø  EBSD功能(néng)：500元/小時(shí) Ø  原位力學(xué)功能(néng)：試運行室溫拉伸 320元/小時(shí)；高溫拉伸500元/小時(shí)；常溫力學(xué)-EBSD聯用700元/小時(shí)；高溫力學(xué)-EBSD聯用900元/小時(shí)；原位納米壓痕 900元/小時(shí)                                           分析測試中心                                               2024年4月3日